研究成果公報　2015年度

先端創生利用

短期タイプ

課題番号：1512129S 
高濃度ホウ素ドープ低抵抗ダイヤモンド薄膜のX 線吸収端近傍微細構造解析(II)

産業技術総合研究所　大曲 新矢